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                  塑料真空鍍膜設備的發展相當快

                  塑料真空鍍膜設備的發展相當快,隨著生產率的提高,生產費用大大降低,已經為真空鍍膜產品的普遍使用鋪平了道路。以卷繞式真空鍍膜機為例,剛開發時 可鍍的薄膜基材寬度是150mm,目前已達2253mm?;木硗驳淖畲缶韽绞?000mm,最大卷繞速度750m/min。自動裝卸的半連續卷繞式真空 鍍膜機鍍膜時間占整個周期的75%,輔助操作時間只占25%。效率更高的從大氣到大氣的卷繞式真空鍍膜機已于1977年出售。隨著計測技術、控制技術的進 步和電子計算機的應用,卷繞式真空鍍膜機正向著高度自動化和高度可靠性的方向發展。

                      卷繞式真空鍍膜機能夠沉積的鍍膜層厚度范圍為0.01-0.2μm,可以在這個范圍內選擇,有的還可以鍍多層膜,滿足多種需要。日本專利提出沉積兩種不同 鍍膜材料的卷繞式蒸鍍裝置。該裝置的真空室(6)分為上室(7),左下室(8)和右下室(9)。蒸鍍時,兩組蒸發源(19、23)蒸發的鍍膜材料(21、 25)分別沉積在塑料薄膜(11)上,在塑料薄膜沒有蒸鍍的一側,裝上輝光放電發生器(15、16)。發生器產生的輝光放電氣體能防止塑料薄膜起皺。使用 這套裝置可以在極薄的塑料薄膜上鍍上無折皺的多層膜,用于制磁帶和薄膜太陽能電池等


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